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掃描電子顯微鏡(SEM) 利用的技術是一種介于透射電子顯微鏡和光學顯微鏡之間的一種觀察手段，其使用聚焦的很窄的高能電子束來掃描樣品, 通過光束與物質間的相互作用, 來激發各種物理信息, 對這些信息收集、放大、再成像以達到對物質微觀形貌表征的目的。S-3400N是日立公司推出的帶有VP模式(VariablePressure)，即可控氣體壓模式的一款高性能鎢燈絲掃描電鏡。通過VP模式，不導電樣品的直接觀測成為可能，使得原來不適合蒸鍍的樣品也可觀察，擴展了應用范圍。
一、設備租賃簡要說明
日立S-3400N型鎢絲燈掃描電子顯微鏡
日立S-3400N型鎢絲燈掃描電子顯微鏡 設備簡介
S-3400N的很多設計提升了儀器性能并簡化了操作，對電鏡的使用者具有極大的實用價值。
新的電子槍和透鏡設計，使得S-3400N在高低加速電壓下均可成高分辨像，并且自動應對加速電壓的數值調整電子槍的發射和透鏡補償，簡化了操作，沒有電鏡使用經驗的新用戶也可輕松享受低加速電壓帶來的應用價值。
新的軟硬件設計使得S-3400N具有優異性能和強大的擴展能力，同時操作簡易維護方便，此外還繼承了日立電鏡一貫具有的優異的穩定性。
新增加的自動功能AAA(自動合軸)和ABS(自動束設定)簡化了操作。
S-3400N掃描電鏡的技術特點：
1、新增加的自動功能：AAA(自動合軸)、ABS(自動束設定)等
2、優異的低加速電壓分辨率
3、實時的全屏、分割顯示和新的信號混合模式
4、新開發的高靈敏半導體式背散射探頭
5、強大的樣品裝載能力，可裝載直徑200mm的樣品
6、強大的擴展能力，可同時安裝能譜、波譜和EBSP
7、快捷、潔凈的分子泵系統
8、電腦控制的優中心、5軸馬達樣品臺，可傾斜-20~+90度(II型)
9、新穎的非接觸式的碰撞保護功能(II型)
●設備基本參數●
二、設備特點
日立HitachiS-3400N掃描電子顯微鏡設備具有新研制的電子光學系統和自動化功能顯示系統有全屏顯示，無閃爍，高像素和實時圖像顯示等優異的性能，它還可以實時信號混合并同時顯示兩個不同的檢測器觀測到的互不相同的樣品信息。
1、電子光學系統的進步
2、簡易的操作
3、新型高靈敏5分割背散射探頭
日立HitachiS-3400N掃描電子顯微鏡通過高畫質提升掃描電鏡的分析能力和操作性，高靈敏度半導體背散射電子檢測器可以在快速掃描模式下運行，這使得尋找大尺寸樣品中感興趣的區域更為簡單和便利。
4、分析型樣品室
5、電腦控制的5軸馬達樣品臺(II型)
6、維護方便
7、選配功能
三、設備檢測應用
掃描電鏡（SEM）是介于透射電鏡和光學顯微鏡之間的一種微觀形貌觀察手段，可直接利用樣品表面材料的物質性能進行微觀成像。目前的掃描電鏡都配有X射線能譜儀裝置，這樣可以同時進行顯微組織形貌的觀察和微區成分分析，因此它是當今十分有用的科學研究儀器。
S-3400N具有最新開發的電子光學系統，具有更多的自動化功能，操作界面更友好。主要功能有納米材料、復合材料、陶瓷材料、金屬材料、高分子材料、薄膜材料、建筑材料、生物材料、電子材料、導體與非導體、地礦、考古等表面微觀形貌觀察及成分分析。
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